ASML1 주요 반도체 생산 장비는 다음과 같은 카테고리로 나눌 수 있습니다 반도체 생산은 매우 정밀하고 복잡한 공정을 거치며, 이를 위해 다양한 첨단 장비가 사용됩니다. 반도체 제조는 수백 개의 공정을 통해 이루어지며, 각 공정 단계마다 고도로 전문화된 장비가 필요합니다. 주요 반도체 생산 장비는 다음과 같은 카테고리로 나눌 수 있습니다1. 포토리소그래피 (Photolithography) 장비포토리소그래피는 반도체 공정에서 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 데 사용되는 핵심 공정입니다. 이 공정에서는 빛을 이용해 감광액이 코팅된 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 새깁니다.노광 장비 (Exposure System or Stepper/Scanner): 웨이퍼 위에 회로 패턴을 인쇄하는 장비로, EUV (Extreme Ultraviolet) 또는 DUV (Deep Ultraviolet) .. 2024. 8. 17. 이전 1 다음
